史上今日：8英寸硅單晶拋光片生產線在北京建成投產
2001年2月27日，中國第一條可滿足0.25微米線寬集成電路要求的８英寸硅單晶拋光片生產線在北京有色金屬研究總院建成投產，它標誌著中國深亞微米超大規模集成電路用硅單晶拋光片的生產達到世界先進水平。
據媒體報道，當時，是否具有滿足0.25微米線寬要求的硅拋光片，是能否批量生產目前流行的64M集成電路和試製256M集成電路樣片的關鍵。這條可滿足0.25微米線寬集成電路要求的８英寸硅單晶拋光片生產線，實現了我國集成電路基礎技術的重大突破，對滿足國內半導體器件市場需求，促進我國深亞微米集成電路的技術進步，實現我國信息產業的跨越式發展具有深遠的戰略意義。
而且值得關注的是，這個項目中國擁有完全的知識產權，是中關村自主知識產權歷史上的一個重要里程碑。
本作品為「科普中國-科技創新里程碑」原創 轉載時務請註明出處
作者： 孔祥宇 [責任編輯: 呂芮光]
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