Intel的7nm全靠它了

10nm工藝節點即將大規模普及，同時這也意味著我們很快進入7nm階段，不過，7nm的技術挑戰已不可同日而語，其中的關鍵就是EUV（極紫外）光刻機。其中，荷蘭ASML（阿斯麥）在當今高端沉浸式光刻機中佔據80%的份額，是絕對的龍頭。

具阿斯麥也公布的財報數據，Q1凈營收為19.4億歐元，毛利率47.6%，而它們所做的一切，不過是賣出數十台光刻機而已。其中主要包含三部分，分別是深紫外光（DUV）微影、全方位微影（HolisticLithography）和極紫外光（EUV）微影，前者用於10nm量產和7nm的研發，迄今累計裝機60多台。而最高端的EUV光刻機，僅僅在Q1晚些時候出貨了第一台NXE：3400B，而收到的訂單已經累計21台，總價值23億歐元，單價超1億歐，媲美一架F35戰鬥機。這第一台的客戶如無意外應該就是Intel，而後者目前用的最多的還是前一代EUV系統NXE3350B，即使這樣，全球也才部署了6套而已，供不應求。

那麼什麼是光刻機呢？

光刻機/紫外曝光機（MaskAligner)又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.

一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、等工序

Photolithography（光刻）意思是用光來製作一個圖形（工藝）；

在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時「複製」到矽片上的過程。

高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，解析度通常在幾十納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其製造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。

位於我國上海的SMEE已研製出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成產品系列初步實現海內外銷售。目前正在進行其他各系列產品的研發製作工作。

喜歡這篇文章嗎？立刻分享出去讓更多人知道吧！