激進至4nm！三星公布最新半導體工藝路線圖！
三星在5月25日的凌晨舉行了一個新聞發布會，發布會公布了自家三星半導體最新的工藝製程路線圖，而在路線圖中我們可以看到，三星希望自己能在2020年就正式推出4nm的工業製程，大家也能看到三星半導體在製程工藝方面的野心了。
工藝路線圖
而根據三星實際的半導體更新計劃，在未來三年內從2017年~2020年，三星半導體的製造工藝將進行穩步的提升和增長，等到了2018年也將正式開始量產7nm工藝，而2019年則會成功研發6nm以及5nm工藝，而在2020年三星希望直接將工藝製程推進至4nm。
而現目前三星表示自己的晶圓廠所使用的光刻機已經可以達到每天1000片晶圓的產量，而未來三星也希望將量產的數量提升至50%至1500片左右，而後賽性還宣布將會在明年（2018年）正式開始引進最先進的EUV光刻機來進行全新工藝的製造。
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