OLEDON與檀國大學成功開發出下一代超高解析度蒸鍍技術

韓國檀國大學與OLEDON公司在SID 2017上聯合宣布，成功開發出一種圖案蒸鍍技術，可實現0.38um的shadow distance (後面簡稱SD) 。

在2016年IMID經濟論壇上，OLEDON的CEO Mr. Hwang曾宣布其使用面蒸發技術和100um厚的shadow mask，成功實現了1.1um的SD，並闡述了OLEDON下一步的研發目標：「如果將Mask的step高度減少至3um，SD將達到0.38um，介時OLED面板的解析度可以做到2250 PPI以上」。顯然，OLEDON的目標如今已經實現，並在SID2017上吸引了不少專業人士的注意。

目前量產AMOLED的解析度瓶頸在QHD級別，大約為600PPI，SD的控制水平約為3um，在UHD級別（>800PPI）以上，3um的SD會導致很多子像素之間存在重疊（overlap），無法真正區分開RBG三種顏色，所以減小SD是繼續提升AMOLED解析度的必要條件。

如果OLEDON的面蒸發技術應用於量產，SD將會減少至0.38~0.56um，AMOLED面板的解析度也將提升數倍以上，甚至達到超高解析度的SUHD級別（>3300 PPI），媲美Micro OLED。

OLEDON的CEO Mr. Hwang講到： 「在真空環境下，使用目前主流的蒸鍍技術，先將有機物分子蒸鍍到金屬面板上，然後金屬面板上的有機物分子再次蒸發，沉積到玻璃基板上，使用這種方式，我們可以將蒸發分子束的角度控制在最小值。」

信息來源於OLEDNET

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