Intel展示未來工藝製程技術：目標3nm

IT之家9月19日消息 除了公布了最新的10nm工藝製程的參數以及Intel其他工藝製程的技術參數之外，Intel還在今天的尖端發布會上放出了未來的技術研究路線圖，在路線圖之中，Intel表示目前未來的目標將會是3nm，而現在全新的10nm以及7nm基本處於研究完畢的狀態。

在Intel的線程路線圖中，5nm工藝製程以及3nm工藝製程處於藍色的前沿研究階段，而10nm和7nm則是研究基本完成的狀態，至於更前面的14nm工藝製程則是處於已投產的狀態。

為了應對未來更低工藝製程帶來的嚴苛挑戰，Intel簡單介紹了未來的八項前沿研究技術，包括納米線晶體管、III-V族晶體管，3D-堆疊、密集內存、密集互聯、EUV團成形、神經元計算以及自旋電子學等前沿尖端領域。而現在由消息稱Intel或許在21世紀20年代推出全新的CPU架構，或許到時候就可以應用這些最新的科技技術。返回搜狐，查看更多

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