領先對手3年 Intel 10nm工藝等效對手7nm

2017-09-19 15:10:15 作者：趙鑫喆

關注硬體的朋友們都知道，Intel的10nm工藝CPU即將蓄勢待發，而Intel今天在中國舉辦「精尖製造日」活動中對將至的10nm Cannon Lake晶元做了講解。

Intel執行副總裁兼製造、運營與銷售集團總裁Stacy Smith首次展示了10nm晶圓，其將被用來製造Cannon Lake晶元。

Intel表示，自家10nm FinFET擁有世界上最密集的晶體管和最小的金屬間距，實現了業內最高的晶體管密度，領先其他10nm整整一代。

之所以這麼說，是因為Intel對於製程的命名是業界最保守也是最權威的，Intel稱三星、台積電的10nm不過相當於自家的14nm，而全新的10nm則是同兩家的7nm差不多。從90nm開始到14nm，Intel基本保持對行業的3年領先。

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