格羅方德準備投產7nm工藝，但EUV可能還沒那麼快

格羅方德半導體，這個脫離於AMD生產部門的公司，在自家的14nm工藝完全成熟之後宣布將會開始進軍7nm工藝。格羅方德的第一代7nm工藝將會被命名為7LP，其中LP並非「Low Power」，而是「Leading Performance」之意。

格羅方德公司位於紐約州的Fab 8工廠將會是將來該公司生產7nm半導體的重要設施，和其他半導體廠商的7nm工藝一樣，格羅方德也在考慮使用EUV工藝進行生產。當然對於行業來說，當前EUV生產工藝尚存在諸多挑戰。

正因如此，格羅方德的7nm工藝將會暫時先使用多模式浸沒光刻，並且在EUV工藝成熟之後進行切換。並且在EUV工藝應用早期，格羅方德也只會將其用於接觸和通孔特性。格羅方德會在有需要的時候慢慢地將EUV技術融入，如此便可加快自家7nm工藝的步伐。

和多模式浸沒光刻比起來，EUV能夠通過單次曝光實現前者需要多個工序才能完成的生產。在將來EUV被更好地應用之後，格羅方德期望能夠大幅度減少生產工序，同時提高良率和產量。

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