中國頂級技術被日本荷蘭「卡脖子」 工程師在德國竟遭遇屈辱一幕

近年來，中國科技正在以猛虎之勢發展，並逐漸縮小與發達國家的差距，我們充滿信心的同時也要保持一個清新的頭腦，在某些領域我們和世界先進水平差距依然很大，急需集中力量努力攻克。首當其衝的便是高新技術領域光刻機，光刻機的主要用途十分廣泛，有用於生產晶元的光刻機，也有LED製造領域的投影光刻機。

「十二五」科技成就展覽上，上海微電子裝備公司（SMEE）展出了中國生產的最好光刻機，它的加工精度達到了9納米，但即使這樣，依然與國外差距過大，國外已經做到了十幾納米。目前，世界上最好的光刻機基本被荷蘭和日本壟斷。

光刻機的難做，是全世界公認的事實，除去主要的核心技術，做光刻機用的底片需要經過精心的打磨，做鏡頭用的鏡片需要高純度透光材料加高質量拋光，組成鏡頭用的每一片鏡片材質都要均勻，需幾十年到上百年的技術沉澱。即使硬體達標，沒極致的機械精度也是白搭。

因為光刻機里有兩個同步運行的工作台，兩者之間的誤差不能超過2納米，我國工程師對兩者的關係做過一個形象的比喻，這兩個工作台的關係類似於兩架大飛機，始終齊頭並進，一架飛機伸出一把刀，在另一架飛機的米粒上刻字，還不能刻壞了。可以說，難度相當之高。

我國為了填補在這一方面的空白，付出了很多努力，不僅專門成立了SMEE，同時也派高級工程師賀榮明去德國考察學習，賀榮明到德國之後才真正明白了，一個頂級的光刻機，一根光纖，一行軟體編碼，一個小動作沒有做好，整個系統就不算優秀。

當時，德國有位工程師和賀榮明說，即使給你們圖紙，也做不出來，這句並不是大話，他深有體會。我國光刻機技術和國外的差距，要求我們必須培養更多高素質的人才，只要我們一代一代不斷的努力，將來一定可以打破荷蘭和日本的壟斷，超過他們，這一天不會久遠。

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