iPhone SE 2上的頂部設備口設計 多張泄露圖片

雖然新版缺口是從iPhone X 才開始出現的（頂部設備口），但是次樣式是否會延續到iPhone SE 2呢？如果延續的話，會採取什麼樣的形狀呢？

iPhone SE 2會是什麼樣的頂部設計呢？

SLASH GEAR發布了兩張缺口圖像。一種是類似於前一天發布的渲染圖像的缺口設計，另一種是基於iPhone X 的設計。

首先，說說第一種缺口，由於顯示屏為4英寸，因此比當前的iPhone X 更清晰，並且顯示屏也可以有更好的保護。請注意，此設計與泄露信息而聞名的Benjamin Jeskin先生所發布的渲染圖像很相似。

第二個是與iPhone X 相同的缺口設計。網上許多流傳出的iPhone SE 2圖像都採用了這種設計，如果假設採用與iPhone X 相同的全屏幕，這種可能性似乎很高。

和iPhone X 不一樣嗎？

也有人認為「Face ID 可能不會被採用」的觀點。

iPhone SE 2是以第一代為目標，以發展中國家為主要銷售地區的廉價版iPhone，可能不注重最新功能的機型。

apple Insider說：「很難想像低價版本會採用TrueDepth相機和用於臉部認證的全屏設計，來更新之前iPhone SE的設計」，而且Benjamin Gueskin還表示：「它將採用與現有iPhone SE 相同的外觀設計和顯示屏。」

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