華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進沉浸式光刻機：邁向14nm

中芯國際花了1.2億美元從荷蘭ASML（阿斯麥）買來一台EUV極紫外光刻機，未來可用於生產7nm工藝晶元，長江存儲也迎來了自己的第一台光刻機，同樣來自ASML，不過是193nm沉浸式，用於產20-14nm工藝的3D NAND快閃記憶體晶圓，7200萬美元一台。

據集微網報道， 5月21日上午，在上海浦東新區康橋工業園南區，華虹集團旗下上海華力集成電路製造有限公司建設和營運的12英寸先進生產線建設項目（「華虹六廠」）實現首台工藝設備光刻機搬入。

這台光刻機的型號是NXT 1980Di，依然是荷蘭ASML提供，後者官方顯示，這是一台193nm雙級沉浸式光刻機，用於10nm級（14~20nm）晶圓生產，它也是大陸裝備的最先進的沉浸式光刻設備。

華力微電子官網資料顯示，華虹六廠是該司的第二個12英寸晶圓生產線，設計月產能4萬片，工藝技術從28nm起步，最終將具備14nm三圍工藝的高性能晶元生產能力。

另外，根據賽迪顧問的統計，按照銷售額，上海華虹位列2017年國內十大集成電路製造企業第五位。

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