突破晶元技術封鎖！中國購入這兩台核心機器 致力晶元自主化

ASML的光刻機安全降落武漢天河機場，正在卸貨中。

據媒體報道，長江存儲的首台光刻機已於20日中午運抵武漢天河機場，設備相關的海關、商檢及邊防口岸的相關手續辦理完成後，即可運至長江存儲的工廠。

報道稱，這台光刻機為ASML的193nm浸潤式光刻機，售價7200萬美元，用於14nm～20nm工藝。這也從側面透露了長江存儲3D NAND快閃記憶體晶元的工藝製程。這是長江存儲的第一台光刻機，陸續還會有多台運抵。

在今年的4月5日，長江存儲首批400萬美元的精密儀器開始進場安裝，標誌著國家存儲器基地從廠房建設階段進入量產準備階段。據悉，長江存儲已經試產，產業鏈上不少企業都拿到了樣片在測試。如順利，今年四季度，中國首批擁有完全自主知識產權的32層3D NAND快閃記憶體晶元有望實現量產。

另據日經亞洲評論報道，中芯國際也向ASML下單了一台價值高達1.2億美元的EUV（極紫外線）光刻機。這台機器預計將於2019年初交貨。

報道稱，EUV是目前世界上最昂貴也是最先進的晶元生產工具。小於5納米的晶元晶圓，目前只能用EUV光刻機生產。三星電子和台積電目前正競爭生產7納米工藝技術晶元，這兩家都訂購了ASML公司的EUV光刻機。

中芯國際這次引進的EUV光刻機預計將於2019年初交付。而在2017年3月，中芯國際宣布將進軍7納米工藝技術的研發。

光刻機是生產大規模集成電路的核心設備，對晶元工藝有著決定性的影響。光刻機的作用是掃描曝光晶元晶圓，刻蝕集成電路。精度越高的光刻機，能生產出納米尺寸更小，功能更強大的晶元。

分析人士認為，這兩次採購將有助於推動中國自主研發半導體生產。這顯示了一個趨勢，中國要在晶元市場上也要扮演一個角色，不再依賴外來產品。

此前有傳言稱基於瓦森納協議，荷蘭不能出售光刻機給中國的傳言。對此ASML發言人表示，公司平等對待對待全球客戶，包括中國客戶，並且依據瓦聖納協定，沒有限制向中國客戶銷售EUV光刻機。

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