三星這項技術再次領先全球！三星進軍未來工藝製程技術：目標3nm

近日，三星在工藝論壇SFF 2018 USA上，向外界展示了其最新的7nm工藝技術，同時還向外界透露，三星還準備連續進軍5nm、4nm、3nm工藝，三星表示目前未來的終極目標將會是3nm，而現在全新的7 nm的EUV極紫外光刻技術基本處於研究完畢的狀態。

三星在論壇大會上表示：三星首先將會在7LPP工藝的基礎上繼續創新改進，然後進一步推出5nm工藝，而4nm工藝也依舊將會結合此前5nm成熟的LPE工藝技術，採用當下成熟最高的FinFET立體晶體管技術；但三星最後表示3nm工藝將會是全新設計的晶體管底層結構，全新設計的晶體管架構能夠克服目前的物理和性能極限，從而實現終極的3nm工藝製程技術，屆時將會一步縮小晶元核心面積。

從三星目前的研發成都來看看，目前只有7nm可以實現量產，其餘的5nm、4nm、3nm都還處於研發階段，但三星率先的做出了規劃，雖然尚未得知何年何月能夠定型，但既然三星做出了規劃，以三星的實力，肯定可以實現未來的3nm工藝製程技術，三星這次再次引領全球，你覺得未來的極限到底在哪裡？歡迎在評論區發表意見和看法一起探討。

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