製造晶元離不開光刻機 但是光刻機離不開什麼你知道嗎？

光刻膠

現在估計大家都知道晶元對於我們國家的發展是具有多麼重要的意義了，我們沒有自己的高精端晶元，一個是因為我們沒有自己的設計能力，第二個是我們沒有製造晶元的能力，很簡單的理解，晶元是需要研發設計的，但是設計出來了，該怎麼生產出來，這個也是很關鍵，這就需要用到光刻機以及刻蝕機了。

還好，現在我們在刻蝕機方面已經獲得了不錯的進步，這就要為我們的中微半導體點贊了，是他們的努力，讓我們的刻蝕機技術進入了5nm領域，這是世界上領先的，而光刻機，這就有些遺憾了，可以說我們和國際上的差距可不是一句話可以說完的。

光刻機研製異常艱難，涉及到的領域非常多，而今天科技風景線小編就給大家說一個關於光刻機領域的一個很多人不知道的「壟斷」，大家都知道，現在高端光刻機基本上都被外國所壟斷了，甚至可以直接說是被荷蘭的「ASML」所壟斷了，而這個壟斷是包含很多的「壟斷」的，就說一下光刻膠吧！

光刻機

作為微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料，光刻膠是光刻機研發的重要材料，通俗的解釋是光刻機就是利用特殊光線將集成電路「映射」到矽片表面，而要想在矽片表面的避免留下「痕迹」，這就需要在矽片表面塗上一層特殊的物質，這個物質就是「光刻膠」。

這個光刻膠可不是平時的膠水，性能指標要求極高，比如特殊感光性能，不能說感光無痕迹，粘附性要求高，不能說不能附著在矽片表面，或者不能勻稱的附著，粘滯性低，這樣光刻膠厚度才能均勻，另外，抗蝕性、表面張力上都有極高的要求。

光刻膠不止應用於晶元，而在高端面板、模擬半導體、發光二極體、光電子器件以及光子器件上應用廣泛，而說一個很無奈的話，現在我們所需要的高端光刻膠基本上都是從國外進口的，這個不但影響了我們高端光刻機的研製，同時也影響到了其他相關產業的發展。

光刻機

光刻機研發不是一輛兩天可以獲得突破的，需要我們做的還有很多，只有我們腳踏實地的一個個將諸多的難關攻破了，一台高精端的光刻機才有可能獲得成功，不要好高騖遠，科技風景線小編相信，我們一定會獲得成功的！

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