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台積電250億美元豪賭5nm工藝,2020年問世

摩爾定律問世50年多來一直指導著半導體行業的發展,但在10nm節點之後普遍認為摩爾定律將會失效,製程工藝升級越來越難。今年台積電、三星及Globalfoundries將把製程工藝推進到7nm。下一個節點是5nm,台積電在上周的半導體技術論壇上宣布將投資250億美元研發、生產5nm工藝,預計2020年問世。

台積電今年的重點是7nm工藝,之前已經報道過多次了,目前台積電的7nm工藝已經有50多個晶元已經或者正在流片中,蘋果A12、海思麒麟980及高通驍龍855晶元以及NVIDAI、AMD新一代GPU晶元都會採用台積電的7nm工藝。

與16nm FF工藝相比,台積電的7nm工藝(代號N7)將提升35%的性能,降低65%的能耗,同時晶體管密度是之前的三倍。2019年初則會推出EUV工藝的7nm+(代號N7+)工藝,晶體管密度再提升20%,功耗降低10%,不能性能沒有變化。

7nm之外,台積電也準備5nm多時了,根據他們在半導體技術論壇所說,台積電將投資250億美元發展5nm工藝,預計2019年試產,2020年量產。

根據之前的資料,與初代7nm工藝相比,台積電的5nm工藝大概能再降低20%的能耗,晶體管密度再高1.8倍,至於性能,預計能提升15%,不過使用新設備的話可能會提升25%。從這裡預估的數據來看,製程工藝到了5nm之後,性能或者能效提升都會放慢,而製造難度也越來越高,投資高達數百億美元,這也導致了未來的5nm晶元成本非常貴。

目前開發10nm晶元的成本超過了1.7億美元,7nm晶元則要3億美元左右,5nm晶元研發預計成本超過5億美元,而開發28nm工藝晶元只要數千萬美元,這一趨勢將導致未來的5nm晶元客戶越來越少,未來只有蘋果等少數資本雄厚的公司才會堅持升級製程工藝了。

5nm工藝之後還會有3nm工藝,此前只有三星公布了3nm工藝的路線圖,在這個節點上三星將改用GAA晶體管,FinFET晶體管在5nm之後將逐漸被放棄,廠商們需要開發新的晶體管架構,GAA就是其中之一。


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