華力迎來首台浸沒式光刻設備 助力先進晶元生產

日前，華力在上海浦東新區康橋工業園南區的工廠迎來了首台浸沒式光刻設備，這台光刻機（NXT 1980 0DI）仍然由荷蘭ASML提供，193nm的雙浸入式光刻技術，用於10nm（14～20nm）晶圓的生產，同時也是國內最先進的浸沒式光刻設備。

今年以來，國內各大晶元企業對於光刻機的引進非常頻繁，在四月份，中芯國際斥資7.6億人民幣從ASML購買EUV極紫外光刻機，打算未來用於生產7nm技術晶元。同樣是ASML，長江存儲在上月也迎來了自己的首台光刻機，193nm浸沒式，20～14nm技術用於3D NAND快閃記憶體晶體，售價高達4.5億人民幣。

光刻決定了半導體線路的精度，以及晶元功耗與性能，相關設備需要集成材料、光學、機電等領域最尖端的技術，被譽為是半導體產業皇冠上的明珠。阿斯麥在行業中居絕對領先地位，佔有中高端設備 8成的份額;其它主要光刻設備廠商為尼康與佳能，但因產品開發上不如阿斯麥具有靈活性，並且在浸沒式光刻產品上錯失關鍵時間點，目前市場份額大幅落後於阿斯麥，近年的研發投入與資本支出已經大幅落後，在先進位程上落後 1至 2代的技術能力。目前ASML的光刻機訂單已經排到了2019年下半年。

華力12英寸先進生產線建設項目是上海市最大的集成電路產業投資項目，總投資387億元人民幣，項目計劃於2022年底建成投產，主要從事晶元生產，重點服務國內設計企業先進晶元的製造，並滿足部分事關國家信息安全的重點晶元製造需求。

大量的企業湧入晶元製造領域，這勢必會給國內晶元行業帶來相當大的活力，特別是目前國家對於晶元製造相當重視。

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