96層堆疊 三星量產第五代V-NAND快閃記憶體
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07-14
近日,三星電子正式宣布開始批量生產第五代3D V-NAND快閃記憶體,該晶元採用96層堆疊設計,相比上一代產品,第五代性能V-NAND性能更高,功耗更低,V-NAND另一大亮點則是首次使用Toggle DDR 4.0介面。
三星V-NAND(圖片源自samsung)
全新V-NAND相比64層NAND在性能上有所增加,數據傳輸速度可達到1.4Gbps,寫入延遲僅為500微秒,相比上代提升30%,讀取信號響應時間縮短到50微秒,性能的提升主要源於主要工作電壓從1.8V降至1.2V。
第五代V-NAND晶元結構與前代相似,成金字塔狀堆疊,中間留有微小孔用作通道,尺度僅為幾百微米,內部存儲單元集成數超850億個,每個單元存儲數據達到3比特。
三星表示第五代V-NAND將廣泛應用於移動設施和企業伺服器,並持續擴大全新V-NAND的產能。
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