英特爾EUV光刻工藝恐要落後三星、台積電兩年

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英特爾的10nm工藝延期到明年底，而台積電、三星的7nm已經或者即將量產。不僅如此，更重要的是英特爾使用EUV光刻工藝也面臨不確定性，有分析稱，2021年底英特爾都不太可能用上EUV工藝，而台積電、三星明年的7nm改進版工藝就會用上EUV。

現在，EUV光刻機雖然已經量產出貨，但在產能還達不到要求，所以台積電首先推出了不使用EUV光刻工藝的第一代7nm，預計明年的7nm+增強版工藝上才會使用EUV光刻工藝。

在使用EUV光刻機方面，三星是最激進的一家，直接在7nm工藝上首發EUV工藝，但這也導致三星的7nm工藝難度高，進展比台積電更慢，台積電今年中就開始量產7nm晶元，三星的7nm EUV工藝預計要到明年初才能正式量產，而且客戶數量遠低於台積電的50多家。GF公司原本也在第二代7nm工藝上使用EUV工藝，不過他們現在退出了7nm工藝的研發、生產，EUV光刻機也用不上了。

英特爾是最早投入研發EUV工藝的半導體公司之一，但是現在英特爾的不確定性也是最大的，2014年，英特爾還表態他們並不依賴EUV工藝，即便沒有EUV光刻機也懂得如何製造7nm工藝的晶元。

關於EUV工藝，英特爾官方還未正式表態，EETiems上周在報道中援引伯恩斯坦分析師Mark Li的消息稱英特爾還在等待EUV技術更加成熟，在2021年底之前不會將EUV工藝納入到其工藝技術中去。

如果實際情況確實如上述分析的那樣，則意味著英特爾至少要在三年後才能用上EUV工藝，即便2021年末真的推出了EUV工藝，其在這個技術進度上落後台積電、三星公司兩年時間，不過，按照英特爾的說法，其策略和決定更成熟，因為在新工藝技術問題沒解決之前上EUV工藝可能會引入額外的風險。

而現在，英特爾最大的麻煩不是EUV光刻工藝，他們首先要解決的是10nm工藝的量產，將良率提高到可以接受的程度，在2019年底正式推出基於10nm工藝的處理器，而在2020年才有可能大規模生產出移動、桌面、伺服器版的10nm晶元。

英特爾的7nm工藝尚在研發中，透露的消息非常少，此前只是表態稱7nm工藝上吸取了10nm工藝的教訓，不搞太浮誇的指標以便降低量產難度。

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