ASML：最先進的光刻機很快將進入中國
中興事件以來，晶元一直作為國人心中的痛。眾所周知，作為半導體晶元生產過程中最重要的一環，光刻機尤其是高端光刻機設備也備受關注。然而國內半導體技術的發展卻受到上述關鍵設備等的掣肘。
目前，光刻機大廠荷蘭設備商阿斯麥 (ASML) 已經佔據了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場。更關鍵的是，ASML已經成為全球唯一一家能向客戶供應最先進EUV光刻機的設備商。而EUV光刻機售價都超過1億美元，落後EUV一代的ArF光刻機平均售價也在4000萬至5000萬歐元左右，可見光刻機的技術門檻極高。
儘管全球第二大晶圓代工廠商Globalfoundries（格羅方德，格芯）、第三大晶圓代工廠商台UMC（聯電）均已放棄7nm製程以及更先進工藝的研發，但ASML仍然對EUV光刻機的前景表示看好，同時也對未來中國市場客戶7nm光刻訂單信心滿滿。
近日，ASML中國區總裁沈波一上任，就參加中國集成電路製造年會，並接受了媒體專訪。
此前有消息指出，中芯國際今年已向ASML訂購了一台EUV光刻機，預計明年交付，用於7nm工藝技術研發。
而在傳統的沉浸式光刻機方面，沈波表示：「ASML的光刻機一直都有在國內銷售，2018年下半年ASML已開始出貨最先進的NXT:2000i，這台ASML最先進的設備也將很快在中國市場看到。」
另外，就DUV光刻機而言，早先有媒體報道，長江存儲、上海華虹半導體分別向ASML訂購了193納米浸沒式光刻機和193納米雙極沉浸式光刻機NXT:1980Di，分別用於存儲晶元製造、晶圓代工等製造。
中國大陸市場正對ASML越來越重要。相較於ASML前任的韓裔總座，此次換上了中國背景的沈波，似乎也顯示出了ASML深耕本地市場的決心。
根據ASML 2018年一、二季財報顯示，一季度中國大陸市場光刻機銷售佔比20%，二季度中佔比19%，與美國市場基本持平，並且超過了中國台灣地區。預計2018年EUV光刻機的產量20台，2019年EUV光刻機的產能可提升到30台，到2020年EUV光刻機的產能可進一步上升到40台。
中國半導體產業要發展，除了技術設備，人才也很重要。我國電子信息產業缺乏相關領域的人才，隨著集成電路產業的快速發展，人才短板已成為不爭的事實。
對此，沈波說道：「ASML致力於為中國光刻行業培養更多的人才，為未來將進入集成電路行業的大學生輸送知識。」沈波表示，ASML注重國內整體半導體人才的培養，以及科普教育的推廣。
今年3月份，ASML與上海集成電路研發中心合作，在上海成立了第一個培訓中心，協助行業培訓高端工程技術人才。另外，ASML還在深圳和北京設有上百人的研發中心，負責計算光刻和量測設備關鍵模組的研發。
點擊下方閱讀原文，關注電腦報新媒體矩陣更多精彩
