會議日程搶鮮看，總有一款Topic適合你，歡迎報名參會——IWAPS 2018

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會議日程

會議報名費

1、參會2600元/人（含早、午自助餐、一次正式晚宴）

2、在校學生2000元/人

註：酒店房間，如沒訂到房間，需要自行尋找入住酒店

上屆盛況

《首屆國際先進光刻技術研討會勝利閉幕》

會議時間

2018年10月18-19日

會議地點

廈門市 海滄區 正元希爾頓逸林酒店

會議簡介

近年來，中國集成電路產業蓬勃發展，基於這樣的形勢，國際先進光刻技術研討會（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平台，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰。

作為國內唯一的高端光刻技術研討會，其發言者均為特邀自光刻及其相關領域的國內外資深專家，代表了其所在領域的國際先進水平。報告內容涉及廣泛，涵蓋了當前的技術現狀、未來的發展趨勢以及面臨的挑戰等。該研討會旨在為與會者提供一個深入討論的互動平台，也為想要了解更多國內外半導體業界動態的研究者和工程師提供更多機會。

主辦單位

國家集成電路產業

技術創新戰略聯盟

承辦單位

中國科學院微電子研究所

廈門半導體投資集團有限公司

協辦單位

中國光學學會

贊助單位

組委會

曹健林

組委會主席

集成電路產業技術創新戰略聯盟理事長

科技部原副部長研究員

葉甜春

組委會副主席

中科院微電子研究所所長 研究員

中國科學院EDA中心常務副理事長

黎家輝（Kafai Lai）

組委會副主席

OSA與SPIE協會會士

IBM T.J.Watson研究員

梁守登（Ted Liang）

組委會副主席

英特爾公司首席工程師

韋亞一

組委會秘書長

中科院微電子所研究員 計算光刻研發中心主任集成電路計算光刻與設計優化開放實驗室主任

演講嘉賓（部分）

Mark Phillips

Ph.D.

Intel Fellow

Director of lithography hardware and solutions

Heike Riel

Ph.D.

IBM Fellow

IBM公司前沿研究所執行董事

物聯網技術及其解決方案主管

Gandharv Bhatara

Ph.D.

Manager, Design to Silicon Divisionof Mentor Graphics

Yu Cao (曹宇)

Ph.D.

ASML公司資深副總裁

ASML Brion公司總經理

Wim de Boeij

Ph.D.

ASML

Christopher J. Progler

Ph.D.

SPIE Fellow

Photronics公司CTO

Satya Kurada

Ph.D.

KLA-TENCOR公司副總裁

Toru KIMURA

Research Director, Fine Electronic Materials Research Laboratories, JSR Corporation

Hiromitsu Maejima

Manager of Coater/Developer marketing, TEL

Will Conley

SPIE Fellow

Staff Applications Manager, Cymer

Tom Obayashi

Ph.D.

Toppan公司中國區項目總監

Yongdong Wang

Ph.D.

Senior Manager, Synopsys

Zhijian (George) Lu

Ph.D.

Business Director of DowDuPont Lithography Business Unit, DowDuPont Inc.

Qiang (Ken) Wu (伍強)

Ph.D.

ICRD 新型器件和材料實驗室副主任

Bi-Qiu (Dylan) Liu (劉必秋)

Ph.D.

Manager of Lithography of HLMC

Chi-I Lang

Ph.D.

Senior Director of Engineering at Applied Materials

Barak Bringoltz

Ph.D.

Director of Modeling Technology, Nova measuring instruments

Thomas Scherübl

Ph.D.

卡爾蔡司公司產品、業務總監

Yanqiu Li（李艷秋）

Ph.D.

Professor of Beijing Institute of Technology

Gonzalo R. Arce

Ph.D.

Charles Black Evans Professor in the Electrical and Computer Engineering Department at the University of Delaware

Mark Neisser

Ph.D.

Global R&D Director at Kempur Microelectronics Inc，Chair of the IRDS Lithography Technical Working Group.

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