OLEDON開發適用於超大型基板的垂直平面源沉積技術

總部位於韓國的OLEDON公司日前宣布開發出一種垂直平面源沉積技術（vertical-plane source deposition），可用於生產小面積和大面積OLED面板。該公司現在正在將這項技術應用於超大型基板，最大尺寸為12代（3300x4000 mm）。

OLEDON表示，目前使用的inline蒸發工藝由於FMM下垂和難以控制多個來源而降低了大面積生產的產量。該公司的垂直平面源沉積可能被證明是一種可行的替代方案。

2017年，OLEDON開發了一種平面源蒸發陰影掩模工藝，可以實現0.38um的陰影距離，從而可以使OLED顯示屏的解析度達到2,250 PPI。該公司表示，此項技術未來將可實現3,300 PPI。

新聞來源：投影時代

首圖來源：Pixabay

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