「超分辨光刻裝備項目」通過國家驗收 可加工22納米晶元

PingWest品玩11月29日訊，根據新華社報道，國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備研製」通過驗收。該光刻機由中科院光電所研製，光刻分辨力達到 22 納米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造 10 納米級別的晶元。

報道稱，項目在原理上突破分辨力衍射極限，建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發新路線，繞過國外相關知識產權壁壘。光刻機是製造晶元的核心裝備，它採用類似照片沖印的技術，把母版上的精細圖形通過曝光轉移至矽片上，一般來說，光刻分辨力越高，加工的晶元集成度也就越高。但傳統光刻技術由於受到光學衍射效應的影響，分辨力進一步提高受到很大限制。為獲得更高分辨力，傳統上採用縮短光波、增加成像系統數值孔徑等技術路徑來改進光刻機，但技術難度極高，裝備成本也極高。

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