超分辨光刻通過驗收 國產22nm晶元將至

昨晚有報道稱，國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備項目」已經通過驗收，未來國產光刻機也將佔領一席之地。該光刻機採用紫外光源，實現了22nm解析度的光刻，可以生產我們熟悉的22nm級別晶元。另外，使用雙重曝光技術後，該光刻機在未來甚至可以生產領先的10nm級別晶元。

超分辨光刻鏡頭（圖片來自我們的太空微博）

據悉，該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，具有完全自主知識產權。這款光刻機的問世，也為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義晶元等變革性領域的跨越式發展提供了製造工具。

吵到納米線單光子探測器（圖片來自我們的太空微博）

在此之前，2002年成立的上海微電子已經率先研發出了90nm製程的光刻機，現在中國科學院光電技術研究所研發的22nm光刻機已經通過驗收，可以說實現了跨越級的進步。

（圖片來自我們的太空微博）

目前超分辨光刻裝備製造的相關器件已在多家科研院所和高校的重大研究任務中得到應用，我們也期待未來能有性能表現更強的中國製造晶元亮相！

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