光刻機霸主供應商著火，是機遇還是挑戰

文/ 華商韜略 張津京

荷蘭光刻機霸主ASML公司剛剛發布消息，其主要元件供應商Prodrive工廠12月1日發生火災，ASML預計明年年初出貨預計將遭遞延。ASML公司在光刻機領域是世界當之無愧的霸主，幾乎壟斷全部的高精度晶元級光刻機市場。而這家公司也以年度產量低下聞名世界。

ASML相關公告

目前數據顯示，2018年全年ASML產量應該在18台左右，預計2019年會有大規模增加，能達到30台。而根據中芯國際的相關報道，2017年年底已經成功預定ASML公司2019年1台7mm光刻機的訂單。

ASML已經確認，2018年的訂單不會受到影響，但2019年訂單肯定要順延。這不光會影響到晶元軍團的7納米之爭，更對中國晶元產業帶來巨大挑戰。

壟斷一切的ASML

談起ASML，這是一家低調的大佬級企業。坐落於荷蘭的這家公司，主營業務就是生產光刻機，尤其是晶元級的EUV。眾所周知，晶元就是用光刻機在矽片上蝕刻出來的，光刻機是晶元製作最基礎的工具，而光刻機的精度就決定了晶元的精度。但ASML技術太複雜，產量一直上不去，2018年ASML在市場出貨量預計破天荒達到18台。

目前在28納米以下的高精度晶元光刻機市場，只有ASML一家供應商。也就是意味著，如果企業想選用主流晶元技術，就不可避免的成為ASML設備生產的晶元產品的用戶。

荷蘭是全球為數不多擁有完整半導體產業鏈的國家，其半導體產業年收益高達百億歐元以上。ASML這家公司1984年從飛利浦獨立出來後，受益於荷蘭完整的半導體產業鏈，取得了飛速發展。

說實話，光刻機技術沒有捷徑。如果沒掌握1微米的技術，就出不來90納米的技術，沒有90納米就出不來45納米技術，而現在最新的技術實力，ASML是唯一一個可以提供完整7納米光刻機技術的廠商。

更有意思的是，只有投資ASML，才能夠獲得優先供貨權。這樣奇特的合作模式使得ASML獲得了大量的資金，包括英特爾、三星、台積電、海力士都在ASML中有相當可觀的股份，可以說大半個半導體行業都是ASML一家的合作夥伴，形成了龐大的共同體，幾乎是全行業的利益壟斷。

7納米晶元之爭有變

此次大火後，最受影響的就是目前三星和台積電正在如火如荼展開的7納米之爭。

2019年雙方比拼的核心產品，都是7納米的晶元。目前可以知道的是，三星將於2019年第二季度推出自己的7納米晶元，而台積電最遲到2019年8月，也會將代工的7納米華為麒麟990晶元推向市場。作為晶元生產的龍頭企業，這兩家的動向深刻影響著行業變局。

但是突發的一場大火，可能會將7納米晶元面世時間往後順延。據相關人士介紹，目前ASML仍提供的是12納米和10納米晶元光刻機，並沒有大規模向外提供7納米精度的光刻機產品。

而此次著火的主要元件供應商Prodrive公司，據業內人士透露是向ASML提供光頭控制整體解決方案和光刻機中控板的廠商，是最核心的合作夥伴，雙方有互換股權深度捆綁。

這次著火後，ASML公司公告顯示，2018年訂單不受影響。有分析師認為，這意味著2018年年度生產所需要的中控和光頭控制主板，已經交貨。公告還稱2019年交貨將順延，也就意味著實際上7納米光刻機的相關控制主板，ASML還沒有從Prodrive公司獲得，或者還未通過生產線穩定測試。

那也就意味著，一般兩個月的新產品生產線測試，由於此次大火會往後順延。而未經生產線測試，最終的7納米光刻機不可能下線交貨。這也為三星與台積電的7納米晶元大戰帶來一層陰影。

自己有才是真的

中芯國際2019年按原計劃將獲取1台ASML製造的7納米EUV光刻機。說實話，根據美國牽頭制定的《瓦森納協定》，歐洲和美國的企業在高技術上實際是對中國進行了嚴格的技術封鎖，ASML也一直以來拒絕向中國出售最新光刻機產品。此次破天荒接受中芯國際的訂單，一方面是國際貿易方面美歐爭端加劇的產物，另一方面也與中國正在攻關相關光刻機技術有關。

2018年5月11日，上海微電子舉行第100台國產高端光刻機交付產線暨產品發運長電先進儀式。上海微電子的光刻機是首次在國內實現了穩定的前道90納米製程晶元生產，有半導體業界人士表示，攻克90納米技術後，65和45納米技術都應該是順理成章的，預計上海微電子已經在實驗室內實現了相關技術進程。而再低一些的28納米和14納米進程，才是最近幾年國內攻關的重點。

正是在上海微電子90納米進程光刻機穩定下線後不到一周，ASML就決定對中芯國際求購1台7納米光刻機訂單放行，其中的奧妙不難推測。

另外11月29日，網路媒體一陣自嗨。因為國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備研製」通過驗收，這是我國成功研製出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻裝備。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22納米，結合多重曝光技術後，可用於製造製程小於10納米的晶元。

但這是抄了近路取了巧，一來加工晶圓的大小不能超過4英寸，二來複雜的圖形不能蝕刻，因此這樣的技術運用於商業化晶元生產還有距離。根據相關主流報道顯示，中科院這個技術已經確認的應用前景更多的是在在光子晶體陣列、高精密光柵等光學器件領域。目前已經實現包括納米透鏡和波前調控等超材料/超表面器件，大口徑輕量化薄膜鏡等第三代光學器件，切倫科夫輻射、LSPR和SERS生化感測、超導納米線單光子探測等系列新型納米器件的製造。當然，技術優化下去，這台光刻機有可能攻破商業晶元生產的難關。

但這代表著我們的技術人員在努力。如果沒有他們，說實話我們可能連28納米的光刻機都買不到。

也就印證了一句話：自己有才是真的。只要你突破了技術，就沒有人能卡住你的脖子。

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圖片均來自網路

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