英特爾：14nm到10nm節點確實面臨挑戰，7nm有望準時推出

據DIGITIMES報道，英特爾(Intel)內部10納米製程投入量產進度拖延多年，預計2019下半年才有望正式投入量產。對此英特爾首席工程長Murthy Renduchintala指出，英特爾明顯低估了從14納米微縮至10納米節點所面臨的挑戰。即使如此，Renduchintala對於英特爾推進7納米進展仍深具信心。

針對外界關注的10納米製程量產時間，Renduchintala不斷重申，英特爾桌上型PC用處理器將在2019年12月左右采10納米製程生產的主張。Renduchintala指出，儘管英特爾在讓10納米製程節點能正常運行上遇到了困難，不過英特爾對10納米節點的功耗、效能及晶體管密度目標依然不變。

英特爾在朝10納米微縮上過於積極，也成為該公司10納米製程一大問題。英特爾嘗試將比例因子縮小至2.7倍，且一直試圖以傳統的曝光技術來實現。7納米節點方面，英特爾將採用更新式極紫外光(EUV)微影技術來曝光其極小的晶體管，且在微縮上也將回到采2倍的比例因子。

針對EUV技術，近日全球最主要EUV設備供應商ASML副總裁Anthony Yen透露，該公司已開始開發更新一代EUV設備「ASML 5000」。ASML 5000將大幅改良英特爾、台積電和三星電子正在採用的ASML 3400系列EUV設備。

與此同時，ASML也正在改良ASML 3400系列設備的功能，將於2019年下半發表新版ASML 3400C，每小時晶圓處理數量將超過170片。不過，由於該公司一家合作電子零組件供應商Prodrive廠房失火，ASML恐將延後2019年部分EUV設備交貨時間。

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