恆坤光電推出UV LED均勻準直面光源曝光光刻方案

隨著UV LED光源技術的日趨成熟，UV LED曝光光源在光刻市場中的佔比逐年提高。恆坤光電|HercuLux Optics的技術團隊深入研究UV LED技術多年，研發出4英寸、6英寸、8英寸紫外LED均勻準直面光源曝光光刻裝置，可以支持特徵尺寸1微米圖形的集成電路製作，並獲得多項技術專利，成功地在客戶端投入使用200多台。

好的效果來自好的光學設計，下面我們了解一下恆坤光電|HercuLux Optics UV LED紫外曝光裝置的設計原理以及6吋紫外LED曝光面光源設計實例演示。

原理圖示

紫外LED發出的光線經收集器收集會聚到複眼透鏡中，複眼透鏡出射的光線經場鏡以及準直透鏡在曝光面上積分準直，在曝光面上實現幾乎平行的且均勻紫外照明。

複眼與場鏡工作原理詳解

每個複眼單元的入射面被場鏡成像到照明場的同一區域相互疊加，從而大大提高照明場的均勻性。

6吋紫外LED曝光面光源設計實例演示

搭配光源信息：某知名UV品牌光源

光學效果：

設計結果：

結構與外形：

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