中微5nm蝕刻機將用於台積電5nm晶元製造

作為全球頭號代工廠，台積電的新工藝正在一路狂奔，7nm EUV極紫外光刻工藝已經完成首次流片，5nm工藝也將在2019年4月開始風險試產，預計2020年量產。

不過眾所周知，半導體工藝是一項集大成的高精密科技，新工藝也並非台積電自己完全搞定，而是依賴整個產業鏈的設備和技術供應，比如大家比較熟悉的光刻機，就普遍來自荷蘭ASML...（點擊了解更多，查看全文）

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