預先發現光晶元設計中的潛在問題？新方法優化晶元製造與性能

近日，西班牙瓦倫西亞理工大學（UPV）通信和多媒體應用研究所（iTEAM）的研究人員在高可靠性晶元的研究中取得突破，發明了一種對光晶元進行分析的先進方法，該方法可以預先發現晶元設計中的潛在問題，從而將其及早解決。

UPV 的研究人員長期致力於研發光晶元，這是一種與 CPU 的功能類似，能以單一架構實現多種功能的晶元。通信和多媒體應用研究所下屬的光子研究實驗室研究人員 José Campany 表示，該組織的一系列研究成果有助於簡化光晶元製造過程，並優化性能。

圖|José Campany 和Daniel Pérez（圖片來源：RUVID 協會）

Campany 教授表示：「光纖片信號通路中經常會出現瑕疵，這些瑕疵會影響晶元性能。而新推出的分析方法能預測晶元存在潛在問題的地方並配置其他組件來彌補這些缺陷，以確保晶元達到設計性能。"，並且整個過程無需用戶干預。

光子研究實驗室研究人員 Daniel Pérez 則表示，該方法的基本原理並不複雜：「首先對晶元的每個單元構建抽象數學模型，然後用數學歸納法對每個部分的性能做出診斷。基於這些診斷，就可以對晶元的瑕疵部分進行修補。"

Campany 教授補充道：「此外，該方法還可以預測目前製造工藝下成品晶元的性能，通過對電路設計的優化，降低後期的測試和修改成本，提高生產效率，從而降低晶元的生產成本。"

通信和多媒體應用研究所的研究人員還在嘗試利用人工智慧技術提高光晶元的設計和製造效能。Pérez 表示，前文提到的方法可以和機器學習演算法聯合完成晶元設計，目前的成果只不過是未來自動化晶元設計流程的種子。

UPV iTEAM研究團隊面臨的下一個挑戰是，將他們最近在電路硬體設計方面的工作與先進演算法結合起來, 進一步提高晶元設計演算法的效能，以最大限度地確保光集成電路晶元的實際效能符合設計預期。

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