國產光刻機落後荷蘭光刻機最少五代，國產蝕刻機處在世界第一階梯

國產光刻機水平比較落後，但是蝕刻機水平處於世界先進水平，已經在研發5納米的技術，彌補了晶元設備的技術不足，光刻機負責「畫圖」，蝕刻機負責「雕刻」，和光刻機一樣的技術要求

光刻機負責將電路圖複製到硅晶片，剩下就是蝕刻機來工作了，它通過腐蝕的方法將電路圖裡多餘的硅晶片去掉，只留下有用的電路圖。工藝分為濕刻和干刻，目前普遍是用濕刻的方式，干刻技術還不成熟。這些工作看似很簡單，但和光刻機有著一樣的技術要求。

近年來加大了半導體設備的研發投入，經過多年研發出來的納米級別刻蝕機取得了重大的突破，目前7納米的刻蝕機已投入使用，工藝水平是頭髮絲的萬分之一，能夠在肉眼無法看到的集成電路上完成蝕刻，已經到了加工微距的極限，生產刻蝕機的國內企業技術已達到世界前端。

中微電子生產出來的第一代刻蝕機可以加工300毫米、45納米的晶圓片，最先進的設備可以達到7納米的工藝。北方華創是高科技國有企業，從2001年就投入到了刻蝕機的研發，最具代表性的產品是ELEDE 330 ICP刻蝕機，一次可以刻蝕27片2英寸的晶圓延層。

目前國外的刻蝕機廠商大部分都達到了7納米的工藝，中微電子也不甘落後，研發出7納米刻蝕機與國外競爭。目前已和台積電在驗證5納米的刻蝕設備，相信不久技術水平會再上一個台階。

喜歡這篇文章嗎？立刻分享出去讓更多人知道吧！