又一國產晶元巨頭崛起！引入ASML光刻機：離世界頂尖有多遠？

近日有一則消息，在6月6日，華虹無錫集成電路研發和製造基地（華虹七廠）正式引入了首台ASML光刻機，目前首批25台光刻機工藝設備已經正式完成安裝並成功上電，後續還將會繼續引入10台ASML光刻機，其實華虹半導體是目前國內第二晶元代工企業，實力僅次於中芯國際，而這次引入ASML光刻機，勢必會再次增強實力，為中國「芯」貢獻一份新的力量。

其實，華虹半導體並不是大陸首家引入ASML光刻機的企業，此前中芯國際就從ASML引入了最新的EUV極紫外線光刻機，看用於生產手機CPU這類的微處理器晶元，價值1.2億美元，最高支持生產7nm工藝製程晶元。

根據此前官方介紹，這次華虹半導體將會在無錫建設一個佔地約700畝，總投資超一億美元，無錫項目佔地約700畝，總投資100億美元，月產能約4萬片的12英寸特色工藝集成電路生產線，據了解，華虹半導體所引進ASML的光刻機可用於10nm級（14~20nm）晶圓生產，支持5G和物聯網等新興領域的應用，最終將具備14nm三圍工藝的高性能晶元生產能力，預計將於9月進行試生產，12月形成量產能力。

隨著華虹半導體、中芯國際、國內存儲製造龍頭企業——長江存儲等企業相繼引進ASML的光刻機，將會再次提升我國晶元加工技術水準，讓國內的不少晶元巨頭得到迅速的發展與崛起。

國產晶元離世界頂尖水平又究竟還有多遠？

其實在手機SOC晶元設計以及封測領域，中國不少企業就能夠打造世界頂尖水準，但是在晶元製造方面，我們實際水準還是與世界頂級水平有著很大的差距。不得不說，在晶元生產加工方面，光刻機真的一種重要的設備，沒有光刻機，對於國產晶元發展也是萬萬不行，但即使能夠買到最新的光刻機，也並代表我國的晶元生產水平就能夠馬上得到提升，就目前而言，我國與世界頂尖晶元代加工企業之間的水平差距，還是非常明顯，這也並不是光靠引入光刻機就能夠得到解決的。

簡單的舉個例子，目前台積電、三星的最高水準都是7nm工藝，預計明年將會進入到5nm工藝水平，反觀國內，中芯國際目前已量產的最高工藝水準為28nm，而未來工藝水準也將會提高至7nm，至於華虹半導體將會今年量產的14/28nm工藝，但實際上14nm工藝，台積電方面早在2014年就實現量產，可見國產晶元加工水準，還是有著5年左右的差距，但未來或許也將會隨著新的光刻機引入，以及自研光刻機方面的突破，而進一步得到提升。

從國內這三大半導體廠商開始密集採購ASML先進的光刻機設備，可以充分的了解到，國內的晶元加工製造水平也將會提升至一個全新階段，但也讓我們非常清楚的認識到，目前我國在高端光刻機領域依舊處於一片空白，與世界頂尖水平存在一定的差距，雖然引入光刻機能夠解決工藝提升的問題，但更重要的還是我國的相關人才以及技術要跟上來，引進光科技終究只是輔助國內晶元行業的發展，最終還是要靠自己一步一腳印創造出屬於自己的光刻機，小夥伴們，你們覺得呢？歡迎在評論區中留言討論！

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