買到了ASML的光刻機，我們的晶元技術，離世界頂尖還有多遠？

近日有一則消息，想必讓眾多關注中國芯的網友們激動不已，那就是華虹七廠（華虹無錫集成電路研發和製造基地）搬入了首台ASML的光刻機。

並且這個工廠將在9月試生產，12月形成量產能力。而華虹半導體做為大陸第二大晶元代工企業，僅次於中芯國際，這次光刻機入廠，必然又將為中國芯貢獻一份新的力量。

其實這不是大陸從ASML買到的第一台光刻機，之前中芯國際從ASML採購到了一台最新的EUV極紫外線光刻機，用於生產CPU這種類型的微處理器晶元，工藝支持7nm。

而華虹半導體還從ASML買到了一台193nm雙級沉浸式光刻錄，主要用於生產內存晶元，工藝支持14-20nm。

很多人以為，只要有了最新的光刻機，我們的晶元技術就可以馬上達到世界先進水平，但目前最新的光刻機已經入廠了，我們的晶元離世界頂尖水平又究竟還有多遠？

拋開晶元設計和封測，單談晶元製造，我們的水平其實就離世界頂級水平差距還很大的。

比如台積電目前的水平是7nm，明年會進入5nm時代，而中芯國際目前還是28nm，據說今年會進入14/12nm時代，而14nm台積電在2014年左右就實現了，相差有5年左右的差距，並沒有因新的光刻機而迅速提升。

至於內存方面，三星的DDR4在10nm左右的工藝，而華為虹目前還是停留在28nm的工藝上，預計後天可以進入20nm左右的水平，相差三星也在5年左右，也沒有因為新的光刻機而提升。

可見，光刻機真的只是晶元工藝中的一種重要設備，沒有萬萬不行，但買到了最新的光刻機，並不代表晶元水平就上來了，我們和世界頂水水平的差距還是非常明顯的，不是靠光刻機就能夠解決的。

有了光刻機只是說解決了工藝提升中的設備，至於技術，人才還得跟上來才行，也就是說路還得一步一步走，光刻機只是輔助設備而已，你覺得呢？

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