14城流片補貼競高下，年度最高600萬元唱主流

科技 08-06

集成電路被稱為信息技術產業的「糧食」，是所有電子產品的核心部件。但與此同時，集成電路也是一個「燒錢」的行業。流片作為晶元生產過程中重要的一環，也是極為耗錢的一個環節。

作者｜春夏校對｜小北

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集微網消息，集成電路被稱為信息技術產業的「糧食」，是所有電子產品的核心部件。但與此同時，集成電路也是一個「燒錢」的行業。流片作為晶元生產過程中重要的一環，也是極為耗錢的一個環節。

以台積電的5nm與7nm為例，據透露，台積電5nm全光罩流片費用大概要3億人民幣，而且費用還不包含IP授權，所以目前看來只有蘋果和華為海思準備切入到這一最先進的工藝節點，其他家晶元廠都還在考慮階段。台積電第二代7nm EUV工藝的流片費用大約為3000萬美元，大約在2億人民幣左右。

儘管鮮有本土IC企業會觸及5nm、7nm工藝，但從其中也能感受到流片費用的耗錢程度。

因此，「流片補貼」也成為我國集成電路相關政策中重要的補貼項目。

深圳

今年4月29日，深圳市人民政府辦公廳印發了《關於加快集成電路產業發展若干措施》，多措施推進深圳集成電路產業重點突破。

其中，專門指出將加強對設計企業流片支持。對於使用多項目晶圓進行研發的設計企業，給予多項目晶圓直接流片費用最高70%、年度總額不超過300萬元的資助。對於首次完成全掩膜工程產品流片的企業，給予流片費用最高50%、年度總額不超過500萬元的資助。

此外，深圳坪山科技創新局還專門開展了2019年集成電路第三代半導體專項資金申報工作。

在支持流片專項資助方面，對集成電路設計企業參加 MPW 項目，按 MPW 直接費用的 80％（高校或科研院所參加 MPW 項目的，按 MPW 直接費用的 90%），給予每家企業年度最高 200 萬元的資助。對利用坪山區企業開展 MPW 的，按上述比例，給予每家企業年度最高 400 萬元的資助。對集成電路設計企業首次工程流片進行資助，按首次工程流片費用（含 IP 授權或購置、掩模版製作、流片等）的 30%，給予每家企業年度最高 300 萬元的資助。利用坪山區企業集成電路生產線流片的，按首次流片費用的 60%，給予每家企業年度最高 600 萬元的資助。

福建

近年來，福建一直在重點發展集成電路，同時省內也有多個城市出台了相關扶持政策。

今年6月，晉江發布了《晉江市加快培育集成電路全產業鏈的若干意見的補充意見》。

對採用多項目晶圓（MPW）技術的集成電路設計企業，按MPW直接費用的80%（高校或科研院所按90%）給予補助，對採用全掩膜工程片流片的，按照其每款產品首次工程流片費用（掩膜版費及流片加工費）的30%給予補助，單一企業年度最高限額400萬元；對利用晉華集成電路生產線流片的企業，按首次工程流片費用（含IP授權或購置費、掩膜版費及流片加工費等）的40%給予補助，單一企業年度最高限額500萬元。

2018年12月，福建省莆田市經信委發布《莆田市人民政府關於降低企業成本促進民營經濟健康發展若干措施的通知》。

莆田將對集成電路設計企業，按照MPW流片費用80%補助，首輪工程流片按照流片費用的50%補助，每個企業年度補助金額最高200萬元。

2018年10月，廈門市政府官網發出調整通知，調整《廈門市人民政府辦公廳關於印發加快發展集成電路產業實施細則的通知》中第十七條「流片補助」的第一款補助標準。

原「用於研發的集成電路企業MPW，按照不高於MPW直接費用70%進行資助，用於研發的集成電路企業工程片試流片按照不高於其加工費30%進行資助」調整為「用於研發的集成電路企業MPW，按照不高於MPW直接費用70%進行資助，用於研發的集成電路企業工程片試流片按照不高於其加工費30%進行資助。針對硅CMOS工藝最小線寬≤55nm、GaAs MMIC工藝最小線寬≤250nm等兩類先進工藝，在以上標準基礎上分別提高10個百分點，即MPW直接費用按照不高於80%進行資助，工程片試流片按照不高於其加工費40%進行資助。」

江蘇

今年4月，南京市浦口區工信局發布了促進集成電路產業發展若干政策，在流片補貼方面，對於首次完成全掩膜（Full Mask）工程產品流片或開展多項目晶圓（MPW）首輪流片的集成電路設計企業，疊加市級獎補給予直接費用最高不超過 60%的補貼；對再次完成全掩膜（Full Mask）工程產品流片的，給予直接費用最高不超過 50%的補貼；每家企業最高不超過 600 萬元。

此外，今年4月9日，無錫市政府舉行新聞發布會，發布《關於進一步深化現代產業發展政策的意見》。

對擁有自主知識產權，且對工藝製程達到一定節點的產品進行工程流片（含MPW）的設計企業，擇優最高按照該款產品首輪流片（含IP授權、掩模製版）費用的40%給予支持。對在本地生產企業掩模流片的，擇優最高按首輪流片費用的60%給予支持。工藝製程為45nm以上的，單個企業支持總額不超過300萬元；工藝製程達到45nm及以下的，單個企業支持總額不超過600萬元。

浙江

今年2月，浙江寧波高新區出台了《關於加快軟體和信息服務業發展的政策意見》。

該文件指出，將對高新區內集成電路設計、製造企業進行工程流片的費用，按照當年實際發生額給予50%的補助，年補助金額不超過200萬元。

山東

今年2月，《青島紅島經濟區加快新舊動能轉換推動產業發展若干政策實施細則》出爐，該政策在鼓勵集成電路項目落地方面提出8條補助措施。在流片補助方面，青島紅島經濟區將按照產品掩膜版製作費用的 60%或首輪流片費用的 40%，每年給予最高不超過 150 萬元研發支持，連續支持 3 年。

天津

今年1月，天津市西青區發布了《西青區加快振興現代服務業支持政策》的通知。

其中，對集成電路設計企業參加多項目晶圓（MPW）項目（含單企業多項目晶圓項目），按照直接費用的80%給予補助；對設計企業購買光罩（MASK）的，按照直接費用的40%給予補助；對設計企業工程片、試流片加工費用的40%給予補助。以上三項單家企業每年累計最高享受補助不超過600萬元。

廣東

今年1月，珠海國家高新區在其官網上發布了《珠海高新區加快推進集成電路設計產業發展扶持辦法（試行）》

在流片補貼支持方面，珠海高新區的集成電路設計企業在參加多項目晶圓（MPW）、工程片試流片階段，市、區財政均將對企業多項目晶圓（MPW）直接費用給予不同的補貼；對企業首次工程片流片加工費（含IP授權或購置、掩模版製作、流片等）市、區也將給予相應的補貼。單個企業年度市、區兩級補貼金額不超過600萬元。

安徽

2018年8月，《合肥高新區促進集成電路產業發展政策》得到2018年管委會第6次主任辦公會通過，正式進行發放。合肥高新區將對集成電路設計企業產品光罩、流片（含掩模版等）費用的30%及從第三方購買IP（含Foundry 的IP模塊）費用的30%予以補貼，以上費用補貼總額單個企業每年最高不超過500萬元。

重慶

2018年8月，重慶發布《重慶市加快集成電路產業發展若干政策》，對實際到位投資2000萬元以上的集成電路設計企業，按照其每款產品完成首次全掩膜工程流片費用50%的比例給予資金支持，對單個企業年度支持總額不超過1000萬元。對使用多項目晶圓流片進行研發的企業（高校、科研機構），按照MPW流片費50%的比例給予資金支持，對單個企業（高校、科研機構）年度支持總額不超過100萬元。對集成電路製造企業開放產能為企業代工流片的，按照每片（摺合8寸片）100元的標準給予資金支持，對單個企業年度支持總額不超過1000萬元。

成都

2018年1月，成都發布《〈成都高新區關於支持電子信息產業發展的若干政策〉實施細則》，對利用區內企業代工新產品首輪流片(Mask、MPW或工程批流片)的企業，按照流片費用50%的標準每年給予最高300萬元的支持;對利用區外企業代工新產品首輪流片(Mask、MPW或工程批流片)的企業按照流片費用30%的標準每年給予最高300萬元的支持。

上海

上海是國內集成電路產業起步最早、產業鏈最完整、綜合技術水平最高的地區。因此，早在2017年，上海就制定發布了《上海市集成電路設計企業工程產品首輪流片專項支持辦法》，對經過全掩膜板（Full Mask）流片，以及首次與本市集成電路製造企業簽訂流片合同，利用其生產線實現線寬在45納米及以下工程產品流片，上海將給予不超過產品流片費用的30%的資金支出。其中，流片費具體包括：IP授權費、掩膜版費、測試化驗加工費。單個企業年度支持總金額不超過1500萬元。

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