國產光刻機曾不輸美國，比ASML早20年，為何現在卻落後20年？
華為的遭遇，將中國晶元產業的不足直觀地擺了出來，更讓人看到了我國被光刻機「卡脖子」之痛。為此，中科院院長白春禮已經表示，要將光刻機等的卡脖子清單，變成科研清單。這讓中國晶元產業看到了希望，而且，我國光刻機產業並非沒有基礎。
國產光刻機曾不輸美國，比ASML起步還早將近20年。中國第一台65型接觸式光刻機在1965年時，便從中科院的手中誕生。從這時起，我國製造晶元時便開始用光科技。
到70年代時，我國對於光刻機的研究更進一步，有許多高校、研究所啟動光刻機研究，如清華大學精密儀器系、中電科45所等。1972年，《光刻掩膜版的製造》一書由武漢無線電元件編寫而成。可以看出，我國光刻機產業在當時已經有了不小的發展。
在1977年時，我國還召開了一場光刻機座談會，並將光刻設備與工藝作為發展重點，希望能趕超世界先進水平。彼時，我國光刻機產業進入高速發展階段。中國首台GK-3接觸式500mm光刻機、首台分步投影式光刻機等相繼問世。
1980年，清華大學研製出3微米光刻機，進一步拉近了中國與國際的距離。就這樣，中國光刻機一步步從落後到與美國的差距愈來愈小。國產光刻機的發展，甚至比1984年成立的ASML還要早將近20年。
然而，如今ASML已經成為全球第一光刻機巨頭，並擁有EUV光刻機的絕對控制權。而我國光刻機產業卻嚴重落後，而且我國唯一的光刻機巨頭——上海微電子，目前僅研製出90nm光刻機。究竟是何導致我國光刻機落後20年？
這與80年代「造不如買，買不如租」思想興起有關。改革開放加上中美兩國建交，使得美國等國家的先進設備、產品等湧入中國市場。面對現成的先進設備，許多企業自然願意樂享其成，導致中國科研腳步被拖慢。
同時，「撥改貸」政策使得許多科研項目資金短缺，由此停滯。而且，海外對我國實行技術封鎖，也使得中國光刻機產業發展遇困。最終，造成了國產光刻機落後的局面，更造成中國晶元製造業拖後腿的情況。
好在，美國種種的挑釁行為讓國人醒悟，明白掌握核心技術的重要性。也期待，我國能儘快補足這一短板。
文/BU 審核/有魚
