耗時7年克服難題，打破長期壟斷，有望造出最先進光刻機

光刻機製造難度大、技術門檻高，嚴重卡住了我國晶元產業的脖子，拖慢了國產晶元的腳步。為了打破這一困境，中科院已經表態將舉全院之力，攻克光刻機難題。不過，想要突破並非一件易事。

上世紀60、70年代，是國產光刻機發展的黃金時期，多所院校、科研機構都投身光刻機研製。可惜的是，還沒等國產光刻機趕上世界水平，我國光刻機研發便在「造不如買」思想影響下，逐漸擱置。

好在如今我國重新意識到了光刻機的重要性，將再次起步。而且，我國已經在光刻機局部技術上有所成就，可以更快起步。

作為中國第一個光學領域研究所的長春光機所，前段時間時間傳來好消息。經過7年的攻堅克難，在今年8月份，由其承擔的國家重大科研儀器設備專項「1.5米掃描干涉曝光系統」項目，成功驗收。

這表示，我國又打破了一項海外的長期壟斷，我國擁有了獨立製作米級單體無拼縫全息光柵能力，並且最大面積達到了650mm×1700mm，令人矚目。

據悉，這項項目的成功突破，對我國高端光刻機、可控核聚變等多領域的發展，具有十分重要的意義。我國在光刻機領域的研發，得以更近一步。

此前，長春光機所還實現了13.5nm波長極紫外光，成功建設EUV光刻曝光裝置，意義也十分重大。

此外，在光刻機雙工件台技術上，我國也有卓越表現。成立於2012年的華卓精科，經過多年努力，終於成為繼ASML之後，全球第二家掌握光刻機雙工件台技術的企業，打破了海外長期以來的壟斷，也打破了外國人對中國的偏見。

華卓精科創始人清華大學教授朱煜，在2006年時，他便帶領團隊參加了「02專項」。其研製的α樣機，成功獲得了驗收。這也是「02專項」光刻機項目中，第一個通過驗收，令人矚目。

在華卓精科的助力下，作為中國唯一光刻機巨頭的上海微電子也得以迅速發展。2021年，上海微電子28nm浸沒式光刻機有望問世，其所採用的光刻機雙工件台，便是來自於華卓精科。

在眾多企業、科研機構的共同努力下，未來中國企業將有望造出中國最先進的光刻機，由此，中國晶元產業也將少一大短板，從而最終實現自主、可控。

文/BU?審核/子揚 校對/知秋

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